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MA＋FA＋SA 汎銓服務全方位

柳紀綸表示，汎銓的策略很清楚「研發無邊界、設備投資無上限」。除TEM穿透式電子顯微鏡、FIB聚焦離子束設備、SEM掃描式電子顯微鏡、nano prober及SIMS先進二次離子質譜儀等先進設備，Thermal、SAT、X-ray及PFIB等先進封裝分析設備也全數到位。有了ALD的加持，更是如虎添翼。
汎銓的材料分析（MA）服務廣受半導體業界肯定，分析能量充沛且全方位，從28奈米一直發展到5奈米以下，全面掌握成熟的技術，滿足客戶在高質量材料分析（MA）、故障分析（FA）及表面分析（SA）的需求。汎銓近年也積極擴展據點，各地陸續成立營業服務站。今年開始強化FA業務，以營運總部為中心，全面展開。
法人分析，半導體大廠積極投入高階製程研發，已邁入3及2奈米製程，未來台積電朝向1奈米製程技術推進並非不可能。汎銓由於參與客戶初始的研發，成為3及2奈米先進的製程先鋒，柳紀綸認為，只有跑在客戶前面，才能贏得合作的機會。汎銓的分析能力，甚至超前設備商的需求。
汎銓往來的客戶超過400家，其中200家長期密切合作，每周每月都固定委託案件，單月協助客戶的研發案件近萬件。15年來持續發展半導體先進MA、FA及SA技術，汎銓不僅是低調的隱形冠軍，也具備領航先進製程研發的實力。<摘錄經濟>

2021/2/26【汎銓先進分析論壇回響熱】
2020/12/14【汎銓FIB電路修補設備正式上線】
2020/11/16【ALD低溫真空鍍膜技術汎銓獲專利】
2020/11/2【MA＋FA＋SA 汎銓服務全方位】
2020/11/2【ALD設備及樣品製備工法提升分析精準度】
2020/11/2【ALD低溫真空鍍膜技術汎銓獲專利】
2020/9/23【汎銓進駐台元園區研發最佳夥伴】
2020/6/29【汎銓邁向IPO 台新證輔導】
2020/6/17【汎銓攜手台新證前進資本市場】
2020/6/17【台新證汎銓簽上市櫃輔導合約】
2020/6/17【汎銓擬明年登興櫃】
2020/5/20【半導體材料分析新品項上市】
2020/5/20【經營鐵三角孵化高階製程研發領航者】
2020/3/20【3年投入逾12.6億深耕半導體分析能量培育高階製程人才獲經濟部】

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