台灣未上市股票財經網

未上市

未上市股票行情,興櫃股票買賣,未上市櫃股票查詢,快速掌握未上市股票買賣脈動

歡迎來到必富網

手機版

加入會員

登入

首頁

未上市櫃股票行情查詢,未上市股票買賣過戶,興櫃股票行情查詢～免付費專線：0800-035-178

ALD設備及樣品製備工法提升分析精準度

ALD真空鍍膜技術對於半導體材料分析的重要性，業界形容，等同於EUV極紫外光對於晶圓廠，不可或缺。
汎銓科技在半導體材料分析（MA），技術領先業界，多年前開發、近期正式取得專利的ALD低溫真空鍍膜技術，可在樣品外形成保護層，避免樣品在電子束照射下產生變形，提升材料分析的精準度，也進一步確立在業界的領先地位。
董事長柳紀綸表示，ALD真空鍍膜技術在市場行之有年，晶圓廠使用大型ALD設備，為高溫製程，而汎銓研發小型ALD設備及樣品製備工法，用於分析實驗室，為接近常溫的低溫設計，產出速度快，是兩者最大的不同。
不是設備製造廠，卻憑著對半導體製程的了解，自力開發材料分析的ALD專用設備及樣品製備工法，汎銓再度證明沒有不可能的事，令外界刮目相看，也再次拉開領先對手的距離。
ALD低溫真空鍍膜設備對汎銓而言，是經過千錘百?的倚天劍、屠龍刀，柳紀綸表示，「這套設備自用、不外賣」。應用於此設備的樣品製備工法也是汎銓獨門利器，未說出口的是，汎銓經驗豐富的研發團隊，是讓設備淋盡致發揮功能的關鍵。<摘錄經濟>

2020/12/14【汎銓FIB電路修補設備正式上線】
2020/11/16【ALD低溫真空鍍膜技術汎銓獲專利】
2020/11/2【MA＋FA＋SA 汎銓服務全方位】
2020/11/2【ALD設備及樣品製備工法提升分析精準度】
2020/11/2【ALD低溫真空鍍膜技術汎銓獲專利】
2020/9/23【汎銓進駐台元園區研發最佳夥伴】
2020/6/29【汎銓邁向IPO 台新證輔導】
2020/6/17【汎銓攜手台新證前進資本市場】
2020/6/17【台新證汎銓簽上市櫃輔導合約】
2020/6/17【汎銓擬明年登興櫃】
2020/5/20【半導體材料分析新品項上市】
2020/5/20【經營鐵三角孵化高階製程研發領航者】
2020/3/20【3年投入逾12.6億深耕半導體分析能量培育高階製程人才獲經濟部】
2020/1/30【汎銓科技半導體分析業領頭羊】

本網站為未上市櫃股票查詢,未上市股票即時新聞,未上市公司公告,興櫃股票買賣,準上市股票,中籤股相關資訊分享交流社群網站,資料僅供參考,使用者請自行斟酌!

本網站不介入會員間之未上市股票買賣,單純提供未上市股票行情,持股轉讓,未上市股票過戶諮詢僅提供未上市股票交易平台給會員使用,依本資料交易後盈虧自負!