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半導體材料分析新品項上市

　　兩年前，當汎銓研發材料分析專用的ALD原子層沉積技術時，令市場驚艷不已，此技術能在晶片樣品上形成保護的「盔甲」，避免人為缺陷。由於能呈現真實的材料微結構與成分，在FA╱MA分析上展現絕對優勢，大量獲得使用。
　　放眼市場，專用於材料分析樣品製備的ALD原子層沉積技術，至今仍是領先全球，使得汎銓與客戶維持緊密的黏著度。董事長柳紀綸認為，汎銓除了擁有獨步業界的完整分析工法，由公司研發團隊自力完成ALD設備研發及製備樣品技術，更具有非凡意義。
　　許多半導體大廠積極投入製程技術與設備開發，提升自主性，更能切合自身的需求，也可避免機密外洩的風險。談到汎銓為何自行開發設備？柳紀綸說，「汎銓在先進製程的材料分析走在業界前端，設備廠跟不上，關鍵性的材料分析設備只好自行研發。」
　　過去一年多，汎銓為服務客戶，長期犧牲「ALD產能成本」，近期針對市場供需情況將有所調整，同時推出ALD相關的材料分析新品項。汎銓強調，過去全部案件皆委案汎銓的忠誠客戶不受影響，仍能以舊品項價格，享有ALD樣品製備技術服務；反之，若是非長期合作、遊走各分析公司的客戶，分析服務將適用於新品項報價。<摘錄經濟>

2020/6/17【汎銓攜手台新證前進資本市場】
2020/6/17【台新證汎銓簽上市櫃輔導合約】
2020/6/17【汎銓擬明年登興櫃】
2020/5/20【半導體材料分析新品項上市】
2020/5/20【經營鐵三角孵化高階製程研發領航者】
2020/3/20【3年投入逾12.6億深耕半導體分析能量培育高階製程人才獲經濟部】
2020/1/30【汎銓科技半導體分析業領頭羊】
2020/1/30【FA＋MA＋SA一站服務提升客戶黏著度】
2020/1/30【5據點零距離管理 MSS戰情不漏接】
2020/1/30【打造夜鷹部隊研發365天24小時無休】
2020/1/30【重育才落實CSR 員工年薪、幸福感雙衝高】
2019/12/26【汎銓MA技術領航產業高階製程】
2019/9/18【新增二次離子質譜儀 SA表面分析利器】
2019/9/18【汎銓獨創ALD真空鍍膜技術】

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