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汎銓低損傷EUV光阻材料分析技術全球獨家

　　汎銓科技（MSS）專攻半導體先進製程的材料分析及故障分析，技術能力可對應7奈米以下製程。2019 SEMICON CHINA，該公司位於Hall N5，5759的攤位，可望吸引大批業內人士互動交流。
　　EUV微影技術是5奈米及3奈米製程繼續發展的關鍵技術，但目前世界各國大廠都面臨極大的困難，主因是難以克服曝光光阻時產生的物理性及化學性變化引發的缺陷。EUV光阻缺陷可藉由TEM進行形貌及成分分析，而樣品製備難度極高，TEM樣品必須維持原貌不變形才能分析缺陷真因。汎銓科技已發展出一套檢測光阻缺陷的技術，能在保持光阻材料原貌情況下，分析曝光缺陷和製程問題，藉此幫助半導體廠改良製程。
　　汎銓科技開發獨步全球的低損傷EUV光阻材料分析技術，可提供最精準的數據，讓客戶在先進製程研發競賽中持續領先。除了新竹總部已設置完善的實驗室，配備全套分析設備；為支援客戶需求，子公司南京泛銓電子科技已在南京浦口經濟開發區正式落戶，提供各項半導體先進製程分析服務，包括：材料分析、故障分析及可靠度分析等，服務對象包括大陸的晶片產業、積體電路、LED及光通訊產業。
　　汎銓科技2005年7月成立，在專業領域獨領風騷，南京廠區為大陸營運總部。汎銓表示，大陸欠缺在地化的高端材料分析廠商，汎銓供應最先進的分析技術服務，為大陸重點產業建立優質研發能量的有力後盾，並可培育更多優秀人才，協助晶片廠縮短先進製程的時間。<摘錄經濟>

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