未上市  

　　晶圓代工大廠預告明年仍將維持高資本支出，材料分析及IC電路修補專業廠汎銓科技，在設備投資上亦密切跟上客戶需求的腳步，今年引進FEI OSIRIS TEM設備，與市場零時差，提供更高端的分析服務給客戶。

　　FEI OSIRIS TEM大幅提升能量分散分析光譜（EDS；Energy-Dispersive X-ray spectroscopy）分析能力，提供更高品質的ZC（atomic number contrast）影像。半導體製程微縮至20/16/10nm，元件不斷變小，電晶體從平面式轉變到3D，TEM試片製備的也難度越來越高。汎銓持續提升TEM試片製備能力及強化TEM成份分析能力，滿足先進製程開發需求。

　　FEI OSIRIS TEM配備四個對稱的EDS SDD（Silicon drift detectors）偵測器，有更低的元素偵測極限、更佳的mapping & linescan空間解析度，與更好mapping的訊噪比；提供更穩定的元素半定量分析，成為先進製程客戶在ZC影像及成份分析功能最佳的TEM分析平台。

　　汎銓是國內唯一同時擁有日系及歐美系TEM設備的專業分析服務公司，取得全面性服務的優勢。其工程人員穩定度與經驗累積也領先同業，堅持以最好的技術、設備及服務來滿足客戶需求，獲得客戶信賴。（翁永全）<擷錄經濟>